发展历程
发展历程

发展历程

一路同行,见证每一个非凡时刻
10年,15亿颗
氮化镓累计出货
2015
2017
2018
2019
2020
2021
2022
2023
2024
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2015年
2015年

12月,英诺赛科公司成立

2017年
2017年

12月,珠海工厂建成通线

2018年
2018年

7月,第一片合格wafer下线

2019年
2019年

6月,低压氮化镓产品量产;高压氮化镓产品通过JEDEC标

8月,高压产品量产

2020年
2020年

6月,高压产品出货1百万颗;低压产品出货5百万颗

9月,苏州工厂建成

2021年
2021年

4月,英诺赛科获得车规IATF 16949:2016 证书

6月,苏州工厂通线量产;8英寸硅基GaN芯片出货量已成功突破1000万颗

11月,高压/低压产品出货量超过4千万颗;美国,欧洲,韩国研发中心设立

2022年
2022年

7月,首次将氮化镓应用于手机内部,创新性双向开关,替代2颗硅器件

9月,首次将氮化镓应用于新能源汽车电池制造环节

10月,8英寸硅基GaN芯片出货量已成功突破1亿颗

2023年
2023年

4月,8英寸硅基GaN芯片出货量已成功突破2亿颗

8月,8英寸硅基GaN芯片出货量已成功突破3亿颗

11月,研发楼建成、启用

12月,8英寸硅基GaN芯片出货量已成功突破5亿颗

2024年
2024年

12月,英诺赛科在香港交易所上市

开启新的氮化镓应用